《铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究》 - 孙芳著 - 冶金工业出版社 - 香港大書城

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『簡體書』铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究

書城自編碼： 3346865
分類：簡體書→大陸圖書→工業技術→化學工業
作者：孙芳著
國際書號(ISBN)： 9787502479909
出版社：冶金工业出版社
出版日期： 2019-05-01

書度/開本： 16开釘裝：平装

售價：HK$ 58.1

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內容簡介：

《铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究》主要介绍了采用电沉积方法制备出具有多种形貌的铜、氧化亚铜薄膜的方法，并通过简单的热处理方法将氧化亚铜薄膜转化为氧化铜薄膜，探索自制的薄膜在光学及电催化氧化葡萄糖方面的性能应用。全书共分9章，章为绪论部分，第2章介绍了电化学沉积理论和实验，第3章为电沉积制备Cu2O薄膜的形貌控制，第4章为Cu2O薄膜的转化，第5章为Cu2O薄膜的性能研究，第6章为新型纳米铜薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用，第7章为Cu／SWNTs复合薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用，第8章为枝形氧化亚铜薄膜在无酶葡萄糖传感器上的应用，第9章为球形粒子聚集的类球形团簇构成的Cu2O薄膜的制备及其在无酶葡萄糖传感器上的应用。
《铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究》可供从事薄膜材料制备的研究人员和其他从事新材料研究和开发的技术人员阅读，也可作为高等院校材料、物理、化学等相关专业本科和研究生的学习参考书。

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