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| 內容簡介： |
随着金属簇合物材料的发展，其优异的光限幅性能、在激光防护中的潜在应用以及原子簇材料作为新型光电子材料在非线性光学和光电子领域引起了研究人员的广泛兴趣，为制造和发展特殊的新型材料开辟了一条新途径。《三阶非线性金属簇合物低热固相合成与表征》在介绍固相合成化学、三阶非线性光学性能的基础上，论述了三阶非线性金属簇合物材料低热固相合成与表征，主要内容包括：绪论、实验设计与技术、钼钨铁硫（族）簇合物的合成与表征、钼钨铜银簇合物的合成与表征、钼钨氧簇合物的合成与表征、金属有机框架配合物的合成与表征、金属簇合物的三阶非线性光学性能等。
來源：香港大書城megBookStore,http://www.megbook.com.hk
《三阶非线性金属簇合物低热固相合成与表征》可供无机化学、金属有机化学、催化化学、结构化学、材料化学以及分子与晶体工程学等科技人员借鉴（参考）、阅读。
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| 目錄：
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第1章绪论1
§1.1固相合成化学1
§1.1.1无机合成与制备化学的研究进展1
§1.1.2配位化学的研究进展1
§1.1.3固体无机化学的研究进展2
§1.1.4低热固相合成化学2
§1.1.5低热固相化学反应的特有规律5
§1.1.6低热固相化学反应在合成化学中的应用6
§1.1.7低热固相化学反应在材料合成中的应用8
§1.1.8对低热固相化学反应的展望9
§1.2三阶非线性光学性能9
§1.2.1非线性光学效应10
§1.2.2非线性光学材料10
§1.2.3非线性光学材料的进展研究11
§1.2.4原子簇化合物的三阶非线性光学性质14
§1.3研究目的、意义和主要成果16
§1.4本研究的思路18
参考文献18
第2章实验设计与技术21
§2.1实验设计21
§2.1.1探索合成22
§2.1.2典型的合成路线26
§2.2实验技术26
§2.2.1低热固相合成簇合物26
§2.2.2表征27
§2.3原料（NH4）2MS4（M=Mo，W）的合成制备及
方法的改进28
§2.3.1合成路线28
§2.3.2制备方法28
§2.3.3结果与讨论29
参考文献29
第3章钼钨-铁-硫族簇合物的合成与表征31
§3.1化合物1～7的合成33
§3.2化合物1～7的X射线单晶结构分析35
§3.3化合物1～7的结构描述39
§3.4化合物1～7的三阶非线性光学性能50
§3.4.1簇合物的三阶非线性光学性能50
§3.4.2三阶非线性光学性能的测量50
§3.4.3光学三阶非线性的原理51
§3.4.4化合物1～7的三阶非线性光学性能的表征52
§3.5化合物1～7的其他表征63
§3.5.1红外光谱63
§3.5.2紫外-可见光谱65
§3.6合成讨论68
§3.6.1萃取剂的选择68
§3.6.2结晶水对低热固相反应性的影响69
§3.7本章小结69
参考文献69
第4章钼钨-铜银簇合物的合成与表征72
§4.1簇合物1～4的合成73
§4.2化合物1～4的X射线单晶结构分析74
§4.3化合物1～4的结构描述76
§4.4化合物1～4的三阶非线性光学性质的表征85
§4.5化合物1～4的其他表征90
§4.5.1红外光谱90
§4.5.2紫外-可见光谱92
§4.5.3XPS、ESR谱94
§4.6合成讨论95
§4.6.1研磨前的预处理对反应产物、产率的影响96
§4.6.2反应温度和时间对产物、产率的影响96
§4.7本章小结96
参考文献97
第5章钼钨-氧簇合物的合成与表征98
§5.1化合物1～4的合成99
§5.2化合物1～4的X射线单晶结构分析100
§5.3化合物1～4的结构描述102
§5.4化合物1～4的三阶非线性光学性质112
§5.5化合物1～4的其他表征118
§5.5.1红外光谱 118
§5.5.2紫外-可见光谱120
§5.6合成讨论122
§5.6.1反应过程探索122
§5.6.2培养晶体时介质的选择122
§5.7溶液法培养晶体的优点123
§5.8本章小结123
参考文献124
第6章金属有机框架配合物的合成与表征126
§6.1化合物1～5的合成127
§6.2化合物1～5的X射线单晶结构分析128
§6.3化合物1～5的结构描述131
§6.3.1化合物1：［Mnbpy2μ2-S6］n131
§6.3.2化合物2：［Copy4NCS2］132
§6.3.3化合物3：{［Cobipy3］［Co2μ2-ox3］}n135
§6.3.4化合物4：［Co2μ2-4,4′-bpy2μ2-be2be2］n137
§6.3.5化合物5：［Zn3μ2-4,4′-bpy2μ2-be2be2μ2-N32］n140
§6.4化合物1～5的三阶非线性光学性质142
§6.5本章小结151
参考文献151
第7章金属簇合物的三阶非线性光学性能153
§7.1光学非线性的Z-扫描理论153
§7.1.1Z-扫描技术的发展153
§7.1.2Z-扫描方法的基本原理154
§7.1.3材料非线性折射的Z-扫描理论155
§7.1.4材料非线性吸收的Z-扫描理论157
§7.1.5结论158
§7.2非线性材料的光限幅特性理论158
§7.2.1光限幅参数158
§7.2.2光限幅机理159
§7.3三阶非线性极化率161
§7.3.1三阶非线性极化率的计算161
§7.3.2单分子三阶非线性极化率公式161
§7.3.3三阶非线性基本理论161
§7.4关于对簇合物三阶非线性的探索162
§7.5本章小结163
参考文献163
附录1本书缩写符号表165
附录2化合物的三阶非线性光学性能166
附录3本书所涉及的部分配合物晶体学数据168
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