新書推薦：
《
午夜时分的解放 1947印度独立与印巴分治实录 汗青堂丛书150
》
售價：HK$
140.8
《
轻松读懂大唐风云三百年（全4册）
》
售價：HK$
262.9
《
雅贼（偷天大盗斯特凡·布雷特维泽的双面人生）
》
售價：HK$
60.5
《
意大利读画记
》
售價：HK$
74.8
《
动物社会的生存哲学 ： 探索冲突、背叛、合作和繁荣的奥秘
》
售價：HK$
97.9
《
百越：公元前10至前3世纪东南沿海的文化与社会 北京大学震旦古代文明研究中心学术丛书
》
售價：HK$
162.8
《
敢于愤怒：正确发脾气，更有利于解决问题
》
售價：HK$
65.8
《
雾越邸暴雪谜案：全2册（綾辻行人作品）
》
售價：HK$
141.9
|
| 內容簡介： |
本书详细介绍了涉及薄膜材料科学的各个方面，内容包括真空技术、薄膜沉积技术与原子过程、薄膜的结构与性能表征等。本书内容广泛，资料全面，各章后面附有习题，是一本真正意义上的薄膜科学与技术的教科书。该书自1992 年第1版问市以来，深受材料科学界的广泛欢迎。非常适用于从事薄膜材料研究的专业研究人员、材料类院系高年级本科生和研究生作教材或参考书。本书由中国科学院物理研究所研究员曹则贤先生特别推荐。
來源：香港大書城megBookStore,http://www.megbook.com.hk
本书为英文版！
|
| 關於作者： |
|
MiltoOhring, 生于1936年，美国史第文斯理工学院材料工程学系教授，在此职位上工作37年期间，一直活跃在讲台。同时，作者还是材料科学、薄膜技术、微电子学等领域的资深研究专家。其他相关著作还有Engineering Materials science,Academic Press(1995),Reliability&failure of electronic Materials &Devices,Academic Press(1998)等。
|
| 目錄：
|
ForewordtoFirstEdition
Preface
Acknowledgments
AHistoricalPerspective
Chapter1 AReviewofMaterialsScience
1.1 Introduction
1.2 Structure
1.3 DefectsinSolids
1.4 BondsandBandsinMaterials
1.5 ThermodynamicsofMaterials
1.6 Kinetics
1.7 Nucleation
1.8 AnIntroductiontoMechanicalBehavior
1.9 Conclusion
Exercises
References
Chapter2 VacuumScienceandTechnology
2.1 Introduction
2.2 KineticTheoryofGases
2.3 GasTransportandPumping
2.4 VacuumPumps
2.5 VacuumSystems
2.6 Conclusion
Exercises
References
Chapter3 Thin-FilmEvaporationProcesses
3.1 Introduction
3.2 ThePhysicsandChemistryofEvaporation
3.3 FilmThicknessUniformityandPurity
3.4 EvaporationHardware
3.5 EvaporationProcessesandApplications
3.6 Conclusion
Exercises
References
Chapter4 Discharges,Plasmas,andIon-SurfaceInteractions
4.1 Introduction
4.2 Plasmas,Discharges,andArcs
4.3 FundamentalsofPlasmaPhysics
4.4 ReactionsinPlasmas
4.5 PhysicsofSputtering
4.6 IonBombardmentModificationofGrowingFilms
4.7 Conclusion
Exercises
References
Chapter5 PlasmaandIonBeamProcessingofThinFilms
5.1 Introduction
5.2 DC,AC,andReactiveSputteringProcesses
5.3 MagnetronSputtering
5.4 PlasmaEtching
5.5 HybridandModifiedPVDProcesses
5.6 Conclusion
Exercises
References
Chapter6 ChemicalVaporDeposition
6.1 Introduction
6.2 ReactionTypes
6.3 ThermodynamicsofCVD
6.4 GasTransport
6.5 FilmGrowthKinetics
6.6 ThermalCVDProcesses
6.7 Plasma-EnhancedCVDProcesses
6.8 SomeCVDMaterialsIssues
6.9 Safety
6.10 Conclusion
Exercises
References
Chapter7 SubstrateSurfacesandThin-FilmNucleation
7.1 Introduction
7.2 AnAtomicViewofSubstrateSurfaces
7.3 ThermodynamicAspectsofNucleation
7.4 KineticProcessesinNucleationandGrowth
7.5 ExperimentalStudiesofNucleationandGrowth
7.6 Conclusion
Exercises
References
Chapter8 Epitaxy
8.1 Introduction
8.2 ManifestationsofEpitaxy
8.3 LatticeMisfitandDefectsinEpitaxialFilms
8.4 EpitaxyofCompoundSemiconductors
8.5 High-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms
8.6 Low-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms
8.7 MechanismsandCharacterizationofEpitaxialFilmGrowth
8.8 Conclusion
Exercises
References
Chapter9 FilmStructure
9.1 Introduction
……
Chapter10 CharacterizationofThinFilmsandSurfaces
Chapter11 Interdiffusion,Reactions,andTransformationsinThinFilms
Chapter12 MechanicalPropertiesofThinFilms
Index
|
|
購物車/收銀台(0) | 在線留言板
| 付款方式
| 運費計算
| 聯絡我們
| 幫助中心 |
加入書簽
HOME
新書上架
