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『簡體書』光学材料的表征

書城自編碼: 2249798
分類:簡體書→大陸圖書→自然科學物理學
作者: 布伦德尔 (C.Richard Brundle),埃文斯 (
國際書號(ISBN): 9787560342795
出版社: 哈尔滨工业大学出版社
出版日期: 2014-01-01

頁數/字數: 311页
書度/開本: 16开

售價:HK$ 202.8

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內容簡介:
Characterization in Optica Materias provides information for understanding the properties and performance of optical materials under the influence of the various characterization techniques. Surface and interfacial properties are key to the optical response of a material, and their control and modification during materials processing is necessary to achieve desired behavior. Characterization of Optica Materias focuses on how surface morphology, microstructure, and chemical bonding influence the optical response of a material, and it illuminates methods used to characterize thin films, multilayer structures, and modified surfaces,
目錄
PrefacetotheReissueoftheMaterialsCharacterizationSeries
PrefacetoSeries
PrefacetotheReissueofCharacterizationofOpticalMaterials
Preface
Contributors
INTRODUCTION
PART1INFLUENCEOFSURFACEMORPHOLOGYAND
MICROSTRUCTUREONOPTICALRESPONSE
CHARACTERIZATIONOFSURFACEROUGHNESS
1.1Introduction
1.2WhatSurfaceRoughnessls
1.3HowSurfaceRoughnessAffctsOpticaIMeasurements
1.4HowSurfaceRoughnessandScatteringAreMeasured
1.5CharacterizationofSelectedSurfaces
1.6FutureDifections
CHARACTERIZATIONOFTHENEAR-SURFACEREGIONUSINGPOIARIZATION-SENSITIVEOPTICALTECHNIQUES
2.1Introduction
2.2Ellipsometry
ExperimentallmplementationsofEllipsometry29,Analysisof
EllipsometryData
2.3MicrostructuralDeterminationsfromEllipsometryData
TemperatureDependenceoftheOpticatPropertiesofSilicon34,
DeterminationoftheOpticalFunctionsofGlassesUsingSE35,
SpectroscopicEllipsometryStudiesofSi02Si37,Spectroscopic
EllipsometryforComplicatedFilmStrucrures38,Time-Resolved
Ellipsometry40,Single-WavelengthReal-TimeMonitoringofFilm
Growth41,Multiple-WavelengthReal-TimeMonitoringofFilm
Growth42,InfraredEllipsometryStudiesofFilmGrowth
THECOMPOSITION,STOICHIOMETRY,ANDRELATEDMICROSTRUCTUREOFOPTICALMATERIALS
3.1Introduction
3.2AspectsofRamanScattering
3.3III-VSemiconductorSystems
3.4GroupIVMaterials
3.5AmorphousandMicrocrystallineSemiconductors
ChalcogenideGlasses60,GroupIVMicrocrystallineSemiconductors
3.6Summary
DIAMONDASANOPTICALMATERIAL
4.1Introduction
4.2DepositionMethods
4.30pticalPropertiesofCVDDiamond
4.4DefectsinCVDDiamond
4.5PolishingCVDDiamond
4.6X-rayWindow
4.7Summary
PART2STABILITYANDMODIFICATIONOFFILMANDSURFACEOPTICALPROPERTIES
MULTIJAYEROPTICALCOATINGS
5.1Introduction
5.2Single-LayerOpticalCoatings
OpticaIConstants90,CompositionMeasurementTechniques
5.3MultilayerOpticalCoatings
CompositionaIAnalysis107,SurfaceAnalyticaITechniques108,
MicrostructuralAnalysisofMultilayerOpticalCoatings
5.4StabilityofMultilayerOpticalCoatings
5.5FutureCompositionaland
MicrostructuralAnalyticaITechniques
CHARACTERIZATIONANDCONTROLOFSTRESSINOPTICALFILMS
6.1Introduction
6.20riginsofStress
……

 

 

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