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超大规模集成电路先进光刻理论与应用
『简体书』 作者:韦亚一 出版:科学出版社 日期:2020-03-01 光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技 ... |
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计算光刻与版图优化
『简体书』 作者:韦亚一 等 出版:电子工业出版社 日期:2021-01-01 《计算光刻与版图优化》由中国科学院微电子研究所计算光刻科研团队韦亚一博士、粟雅娟博士、董立松博士、张利斌博士、陈睿博士、 ... |
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