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光刻技术(原著第二版)
『简体书』 作者:林本坚 著 出版:化学工业出版社 日期:2024-08-01 本书详细介绍了半导体芯片制造中的核心技术——光刻技术。主要内容包括驱动光学光刻的基本方程和参数的相关知识、曝光系统和成像基础理论、光刻系统组件、工艺和优化技术等;深入分析了光刻技术的发展前景,详述了浸没式光刻与极紫外(EUV)光刻。本书(第二版)特别融合了作者在研究、教学以及世界级大批量制造方面的独 ... |
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