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『簡體書』超大规模集成电路先进光刻理论与应用

書城自編碼: 3492276
分類:簡體書→大陸圖書→工業技術電子/通信
作者: 韦亚一
國際書號(ISBN): 9787030482686
出版社: 科学出版社
出版日期: 2020-03-01

頁數/字數: /
書度/開本: 大32开 釘裝: 平装

售價:HK$ 473.9

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光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的,希望能对读者有所启发。

 

 

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