《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》 - 韦亚一 - 科学出版社 - 香港大書城

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『簡體書』超大规模集成电路先进光刻理论与应用

書城自編碼： 3492276
分類：簡體書→大陸圖書→工業技術→電子/通信
作者：韦亚一
國際書號(ISBN)： 9787030482686
出版社：科学出版社
出版日期： 2020-03-01

頁數/字數： /
書度/開本：大32开釘裝：平装

售價：HK$ 473.9

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內容簡介：

光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例，这些实例都是经过生产实际验证的，希望能对读者有所启发。

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