《薄膜光学与真空镀膜技术》 - 王治乐 - 哈尔滨工业大学出版社 - 香港大書城

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『簡體書』薄膜光学与真空镀膜技术

書城自編碼： 2112001
分類：簡體書→大陸圖書→自然科學→物理學
作者：王治乐
國際書號(ISBN)： 9787560336961
出版社：哈尔滨工业大学出版社
出版日期： 2013-06-01
版次： 1 印次： 1
頁數/字數： 268/394000
書度/開本：大16开釘裝：平装

售價：HK$ 111.3

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了　《薄膜光学与真空镀膜技术》比较全面地介绍了光学薄膜的理论基础与真空制备工艺，内容包括光学薄膜的波动理论基础、膜系特性计算与设计方法、常用膜系（减反射膜系、反射膜系、截止滤光片与带通滤光片）的性能特点、薄膜在真空状态下的物理气相沉积技术、物理气相沉积薄膜的结构与特点、光学薄膜的性能测试方法等。

上篇
第1章绪论
1.1薄膜光学概述
1.2电磁理论基础
第2章光学薄膜特性计算
2.1递推法
2.2矢量法
2.3矩阵法
2.4非均匀介质膜特性计算
第3章光学薄膜的普遍定理
3.1透射定理
3.2普遍等效定理
3.3对称膜等效定理
3.4周期性多层膜理论
3.5诱导透射定理
第4章膜系设计方法
4.1 图解法
4.2解析法
4.3自动设计法
4.4其他设计法
第5章常用膜系分析与设计
5.1减反射膜（增透膜）
5.2反射膜
5.3分光膜
5.4截止滤光片
5.5带通滤光片
5.6光波斜入射对膜系的影响
5.7光学薄膜设计范例
第6章光学薄膜应用举例
6.1光学薄膜在导引头半实物仿真系统中的应用
6.2光学薄膜在眼镜行业中的应用
6.3截止滤光片的应用
6.4带通滤光片的应用
下篇
概述
第7章真空镀膜设备
7.1真空基础知识
7.2真空的获得
7.3真空的测量与检漏
第8章真空薄膜沉积技术
8.1热蒸发镀膜技术
8.2溅射镀膜技术
8.3离子镀膜技术
8.4膜厚的监控
8.5获得均匀膜层的方法
第9章物理气相沉积薄膜的结构与特性
9.1薄膜形成与微观结构
9.2薄膜特性
9.3镀膜工艺对薄膜性能的影响
第10章光学薄膜的性能测试
10.1光学常数的测试
10.2光学性能的测试
10.3机械性能的测试
10.4其他性能的测试
第11章常用光学薄膜材料
11.1金属薄膜
11.2介质薄膜
11.3特殊材料
附录
附录1光学零件镀膜分类、符号及标注
附录2光学薄膜元件环境适应性试验方法
附录3光学和光学仪器光学薄膜
附录4 ISO 9211—1：2010
附录5 ISO 9211—2：2010
附录6 ISO 9211—3：2008（E）
附录7 ISO 9211—4：2006（E）
术语索引
参考文献

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